PVD（物理气相沉积）与CVD（化学气相沉积）工艺是真空镀膜领域的常用技术，主要用于在零件表面沉积薄膜，提升零件的耐磨性、耐腐蚀性、装饰性等性能。前处理清洗是PVD、CVD工艺的关键环节，零件表面的油脂、氧化物、颗粒物等杂质会严重影响薄膜与零件表面的结合力，导致薄膜脱落、开裂等问题，因此需要专用的真空镀膜清洗剂提供系列化前处理清洗解决方案，适配不同工艺、不同材质零件的清洗需求。 真空镀膜清洗剂针对PVD工艺的前处理需求，提供针对性的清洗方案。PVD工艺对零件表面的清洁度要求较高，需去除零件表面的油脂、氧化物与微小颗粒物，确保薄膜沉积均匀、结合牢固。针对这一需求，采用低残留、高脱脂的配方，能快速分解零件表面的各类油脂，同时通过氧化还原反应去除表面的氧化物，再通过分散作用带走微小颗粒物，确保零件表面达到PVD工艺的清洁要求。同时，清洗剂具备良好的挥发性，清洗后零件表面无残留，避免残留清洗剂影响镀膜效果。
针对CVD工艺的前处理需求，优化配方设计，适配CVD工艺的高温、高真空环境。CVD工艺中，零件表面的杂质会影响气相反应的稳定性，导致薄膜成分不均、性能下降，因此清洗剂需能去除杂质，同时不会引入新的污染物。采用高纯度配方，能有效去除零件表面的油脂、有机物、金属杂质等，同时具备良好的兼容性，适配CVD工艺中常用的各类零件材质，清洗后不会在零件表面形成氧化层，确保气相反应顺利进行。
此外，真空镀膜清洗剂提供系列化解决方案，可根据零件材质、杂质类型、镀膜工艺的不同，选择适配的清洗剂型号与清洗方式。同时，清洗剂具备环保、温和的特点，不会对环境造成污染，也不会损伤零件表面，确保前处理清洗环节安全、高效。通过系列化的清洗解决方案，能为PVD、CVD工艺提供可靠的前处理保障，提升镀膜质量与零件性能。
